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특허 [업무사례]반도체 제조 설비를 위한 실시간 열량 모니터링 기반 열전소자 온도제어 시스템 등록 사례

작성일 19-09-24 11:01

본문

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등록 특허 명칭 : 반도체 제조 설비를 위한 실시간 열량 모니터링 기반 열전소자 온도제어 시스템 


출원번호/일자 1020130052132 (2013.05.08)

 등록번호/일자 1013021560000 (2013.08.26)


 

본 발명은 열전소자 블록에 대한 에너지 밀도를 모니터링하여 비례적분미분(PID) 

제어와 필요 열량에 따른 직접 제어를 선택 적용함으로써 회수 냉매의 온도와 열교환 환경에 

대한 정보를 통해 반도체 제조 설비로부터 구동 전력 정보를 전달받지 못하거나 제한된 수준으로 

전달받더라도 급격한 변화 패턴을 가진 반도체 제조 설비에 대한 최적 온도 제어가 가능하도록 한 

반도체 제조 설비를 위한 실시간 열량 모니터링 기반 열전소자 온도제어 시스템에 관한 것으로, 

회수 냉매를 제 1 열전소자 블록을 통해 1차적으로 냉온 제어한 후 냉매 탱크에 제공하고, 냉매 탱크의 

냉매를 제 2 열전소자 블록을 통해 2차적으로 냉온 제어한 후 부하에 공급하도록 구성한 후, 상기 각 

열전소자 블록들을 각각 PID 제어하되, 각 열전소자 블록 및 열교환 환경에 대한 정보를 기준으로 필요 

열량과 가용 열량을 실시간 모니터링하여 PID 제어에 의한 신속 대응이 어려운 경우 일측 열전소자 

블록은 PID 제어를 중단하고 가용 열량에서 필요 열량을 제공하도록 직접 제어함으로써 열충격을

 줄이면서 신속한 목표 온도 제어가 가능한 효과가 있다.



본 특허는 백상희 대표변리사가 대리하여 특허출원에 성공한 실제 사례입니다.

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